Desenvolvimento de sistemas de plasmas de interesse tecnológico

Autores/as

  • Júlio Akashi Hernandes
  • Matheus Ribeiro Damasceno
  • Ettore Pureza Leonel Bigi de Aquino

DOI:

https://doi.org/10.34019/2179-3700.2019.v19.29883

Palabras clave:

Plasma DBD, Pulsos rápidos, Alta tensão, Efeito avalanche, Biotecnologia

Resumen

Pulsos rápidos de alta tensão, com tempo de subida na ordem de nanossegundos (ns), têm se mostrado cada vez mais aplicáveis nas mais diversas áreas de pesquisa, desde o tratamento de superfícies em ciência dos materiais até aplicações na biotecnologia e na biomedicina. Nosso estudo foi particularmente motivado pela capacidade que esses pulsos têm de acionar plasmas frios de barreira dielétrica, uma tecnologia em franco desenvolvimento e com grande leque de aplicações. Foi feita uma revisão na bibliografia especializada, incluindo a reprodução de alguns circuitos apresentados na literatura capazes de gerar pulsos usando componentes semicondutores como chaves rápidas. Particularmente interessante para nosso trabalho é o modo avalanche de transistores, e acionamento avalanche em cascata de transistores em série.

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Citas

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Publicado

2020-03-06

Cómo citar

Hernandes, J. A., Damasceno, M. R., & de Aquino, E. P. L. B. (2020). Desenvolvimento de sistemas de plasmas de interesse tecnológico. Principia: Caminhos Da Iniciação Científica, 19(1), 10. https://doi.org/10.34019/2179-3700.2019.v19.29883

Número

Vol. 19 Núm. 1 (2019)

Sección

Artigos originais - Ciências Exatas e da Terra

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